第3回 レーザ先端材料加工国際会議
2002年5月27日−31日  大阪大学コンベンションセンター

LPM2002
(第3回 レーザ精密微細加工国際会議)
HPL2002
(第1回 高出力レーザ加工国際会議)

English Page


締切日 !


2002年2月1日 : 著者へのAcceptance Notice
Acceptance Noticeのご送付が遅くなり、大変ご迷惑をおかけいたしました。
アドヴァンス・プログラムを現在公開中です。
2002年4月13日 : 参加登録早期割引
2002年5月27日 : 論文用最終原稿

アドヴァンスプログラム日本語版の公開が遅れ、ご迷惑をおかけいたしました。
各論文に新しい番号をつけました。SPIEに論文原稿を送付する時には各ページの裏に鉛筆でこの論文番号とページの通し番号を鉛筆でうすく書いて下さい。論文原稿の枚数は投稿論文が6ページ以内、招待講演論文は10ページ以内ですのでよろしくお願い致します。
すでに(旧番号で)SPIEに送付済の原稿については事務局からSPIEに一覧表を送り、SPIEに処理してもらいます。最終確認はLAMP事務局が行いますので再送付していただく必要はありません。
会議開催中は受付にて論文原稿をお預かりいたします。お預かりした論文原稿はLAMP2002事務局がSPIEに一括して送付致します。
会議開催中、2日目の5月28日からCD版論文集のお申し込みを受け付けます。CD版にはこの国際会議のすべての発表が含まれます。
会議開催まであとすこしです。皆様のお越しをお待ちいたしております!


LAMP2002の趣旨と内容

LAMPは高パワーレーザから精密微細加工に至る最先端レ−ザ加工の科学と技術を 扱う国際会議です。本会議は過去に2回(1987年大阪および1992年長岡)開催され、レ−ザ加工分野 では世界最高水準の国際会議との評価を得ています。かねてより世界各国より第3回の開催が要望 されておりましたが、この度大阪大学にてLAMP 2002を開催いたす運びとなりました。LAMP 2002は 第3回レーザ精密微細加工国際シンポジウム(LPM2002)と第1回高出力レーザ加工シンポジウム (HPL2002)より構成されるコングレスで、ミクロ加工およびマクロ加工における基礎科学から工 業応用まで、ソフトウエアはもちろんハードウエアもカバーします。  LAMP 2002では、プレナリーセッション、3つのスペシャルセッション、 LPM, HPLそれぞれ の口頭セッション、ポスターセッションにテ−ブルトップ展示が併設され、5日間の日程で開 催されます。本コングレスでは、当該分野において基礎研究者、エンドユーザー、レーザマニュ ファクチャーが一堂に会し、レ−ザ - 材料相互作用の基礎科学からレ−ザ加工技術の現状、次世 代のレ−ザ加工のトピックスまで広く議論する場を提供することを目的としており、世界のレーザ 加工をリードする多数の研究者を招待いたします。その結果、この会議を通してレーザ加工を支え る科学基盤を確立することはもとより、レ−ザ加工技術の実用化を制限する要因、それを克服する ために必要な将来技術、および将来市場の予測などが明確になることを期待します。


トピックス

論文投稿の際には下記トピックスの中から3つ以内の項目を選択し、その番号を優先順に記入してください. LPM2002 (レーザ精密微細加工国際会議) :
  1. 加工基礎
  2. モデリング及びシミュレーション
  3. プロセスモニタリング及び制御
  4. 超短パルスレーザ加工
  5. マイクロマシニング
  6. マイクロドリリング
  7. マイクロ切断
  8. パターニング、テクスチャリング
  9. マイクロ溶接・接合
  10. 整形及び形状加工
  11. クリーニング
  12. アニーリング
  13. 改質(表面・内部)
  14. マーキング
  15. トリミング
  16. リソグラフィ
  17. レーザ誘起反応
  18. 有機材料加工
  19. 無機材料加工
  20. マイクロ実装
  21. 薄膜形成 (PLD, CVD,MAPLE-DW, LIFT, 他)
  22. 医療及びバイオ関連
  23. 光学部品
  24. レーザ発振器とビーム伝送システム
  25. 市場の現状と動向
  26. 産業応用
  27. EUV光源とその応用
  28. その他
HPL2002 (高出力レーザ加工国際会議) :
  1. 加工基礎
  2. レーザ誘起プラズマ
  3. モニタリング及び制御
  4. モデリング及びシミュレーション
  5. 材料的・冶金学的検討
  6. 特性評価(強度)
  7. 高出力半導体レーザ
  8. ガスレーザ
  9. 固体レーザ
  10. 集光光学系
  11. ビーム伝送システム
  12. 溶接
  13. 軽量合金の溶接
  14. テーラードブランク溶接
  15. ハイブリッド溶接
  16. 切断及び穴あけ
  17. クリーニング
  18. 表面改質(焼入れ,合金化等)
  19. クラッディング
  20. ラピッドプロトタイピング
  21. 3次元整形及び形状加工
  22. 新規応用(サンドイッチパネル等)
  23. 応用分野(自動車,船舶,車両,航空機等)
  24. 応用分野(鉄鋼,原子力,原動機,部品等)
  25. 市場の現状と動向
  26. その他
スペシャル・セッション :
  1. テーラード材料
  2. 半導体レーザ(LD)とLD直接加工
  3. 超短パルスレーザ加工

招待講演者

(1) 基調講演:

(2) LPM2002 (レーザ精密微細加工国際会議 )

1.ナノテクノロジー

2.マイクロ加工

3. マイクロシステム

4.PLD成膜

5.表面・内部改質

6.レーザシステム/光学系

7. 産業応用

(3) HPL 2002 (High Power Laser Macro Processing)

1.レーザとその応用技術

2.シミュレーション

3.アルミニウムの溶接

4.プラスチックの溶接

5.自動車関連技術

6.重工関連技術

7.鉄鋼関連技術

8.その他

(4) スペシャルセッション

1.テーラード材料

2.半導体レーザ(LD)とLD直接加工 3.超短パルスレーザ加工

アブストラクトと論文投稿について

発表形式には口頭とポスターがあります。お申し込みの際にご 提出いただいたアブストラクトの内容をもとに、お申し込みを受理するかどうかを プログラム委員会で決定いたします。なお、プログラム構成上、発表形式(口頭またはポスター)の変更をお願いする場合がありますのでご承知おき下さい。 本会議の投稿論文は会議終了後、プログラム委員ならびにプログラム委員会の指名を受 けた会議参加者による査読を経てSPIEのプロシーディングス・シリーズとして 編集・出版されます。発表・出版に関する所属企業あるいは政府の許諾は申し込み前 の取得をお願いいたします。

論文の投稿に際しては:


1. 国際会議の選択
下記の各会議またはセッション のうち一つを選択してください.
(1) LPM2002(レーザ精密微細加工)
(2) HPL2002(高出力レーザ加工)
(3) スペシャルセッション1, 2, 3
2. 発表題目 (英語)
3. 著者
(共著者も含む各著者の氏名,所属:日本語と英語、両方にて記載)
4. 連絡者
所属、連絡先住所、電話番号、Fax番号、E-mailアドレス
5. 英文アブストラクト(200 語以内)
写真、図、表などは入れずに、テキストのみとしてください.
6. トピックス
(トピックス欄の項目の中から3つを選択し、その番号を優先順に記入してください.)
7. 発表方法
口頭発表 か ポスター発表かを選択してください.

以上をご記入の上2001年11月30日までに、下記 いずれかの方法でお送りください. 当ホームページからの投稿または電子メールに よる送付をおすすめします.アブストラクトには特殊な文字を使用せずにワードファイルまたはテキストでご送付下さい.くれぐれも申し込み期限をお守り下さい.